一、儀器的用途   透反射熱臺偏光顯微鏡是地質、礦產、冶金、石油化工、化學纖維、半導體工業(yè)以及藥品檢驗等部門和相關高等院校的高分子等專業(yè)最常用的專業(yè)實驗儀器。與光學或電子顯微鏡配合使用，在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀態(tài)和各種變化。 
  專為材料學、生物化學、冶金學、有機化學、高分子材料學而研制。觀察高聚物熔融和結晶過程中的形態(tài),結晶速率及動力學計算；觀察雙折射體的光學效應；微生物形貌觀察；組織細胞核、壁形態(tài)觀察；地質材料偏光形態(tài)觀察；無機晶體材料觀察,特別對含有結晶體的材料進行熱性能變化的研究更為重要。 
二、技術參數 1.目鏡 類別  放大倍數  視場(mm)  
大視野目鏡  10X  φ18  
分劃目鏡  10X  φ18  
2.物鏡 類別  放大倍數  數值孔徑(NA)  蓋玻片厚  
無應力平場
消色差物鏡  5X  0.12  -  
10X  0.25  -  
40X  0.65  -  
60X  0.85  -  
3.總放大倍數：40X---600
4.目鏡管：轉軸式（傾斜30°），內置檢偏器,可自由切換正常觀察與偏光觀察,推入式
 勃氏鏡,中心可調,λ補償器,λ/4 補償器,石英鍥補償器
5.透射照明：6V 20W鹵素燈,亮度可調,起偏器可360°旋轉有0、90、180、270四個讀數
 反射照明: 6V 20W鹵素燈,亮度可調, 起偏器可旋轉；
6.載物臺：機械式附加旋轉臺面 尺寸 φ100mm， 360°旋轉
7.調焦機構：粗微動同軸，齒輪轉動 , 帶限位及調節(jié)松緊機構
8.聚光鏡：阿貝聚光鏡NA1.25，升降上下可調
9.防霉系統:特有防霉
10.高精度偏光熔點熱臺 XPH-300
  ①工作溫度：室溫 至320℃(可達350℃)
  ②起始溫度設定速率：50℃至300℃小于12min ; 300℃至50℃小于15min
  ③儀器溫度最小讀數：0.1℃
  ④加熱臺溫度控制準確度： 室溫-200℃時:±0.5℃; 200-320℃時:±1℃
  ⑤起始溫度設定準確度：±1℃
  ⑥線性升溫速率（℃/min）：0.2；0.5
   降溫速度:可設置降到到指定的溫度,從而達到在此溫度的恒溫.
  ⑦線性升溫速率偏差：±10% 
四、系統組成 
電腦型(XPR-800V)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.攝像器 4.A/D(圖像采集) 5.XPH熱臺
數碼型(XPR-800D)：1.顯微鏡 2.適配鏡 3.數碼相機 4.XPH熱臺 
五、總放大參考倍數 XPR-800V型：50--3400倍       XPR-800D型：50--2000倍 六、選購件 1.目鏡：16X(Φ11mm)   2.物鏡：20X 50X 80X 100X 
3.移動尺(30X25mm)    4.偏光顯微鏡分析軟件
5.圖像測量軟件